金屬真空鍍膜加工多重優惠【泰坦金屬】

 2.2.2偏壓濺射biassputtering：在濺射過程中，將偏壓施加于基片以及膜層的濺射。

   2.2.3直流二級濺射directcurrenodesputtering：通過二個電極間的直流電壓，使氣體自持放電并把靶作為陰極的濺射。

   2.2.4非對稱流濺射asymmtricalternatecurrentsputtering：通過二個電極間的非對稱流電壓，使氣體自持放電并把靶作為吸收較大正離子流的電極。

   2.2.5高頻二極濺射highfrequencydiodesputtering：通過二個電極間的高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負電位的濺射。

   2.2.6熱陰極直流濺射（三極型濺射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電所產生的離子，由在陽極和陰極（靶）之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜加工是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術先用于生產光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。

真空PVD鍍膜涂層可以解決部分壓鑄模具碰到的問題，通過在模具表面沉積一層涂層，這一類的涂層的顯著特點是具有較高的厚度和耐高溫性能，真空PVD鍍膜涂層的加入可以有效的改善抗高溫性能，表面硬度和抗i氧化性，同時表面涂敷的真空PVD鍍膜涂層可以抵抗沖擊金屬液體的沖擊。常見的壓鑄模具涂層有TiAlN，AlCrN和AlTiCrN等。常見的思路是利用一層較硬的真空PVD鍍膜涂層來抵抗金屬液體帶來的高溫以及對模具的沖刷等。