連云港掩膜板免費咨詢「多圖」

公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。

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接觸光刻技術中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術中使用的掩模具有表面特征圖案的實際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學系統投影模式曝光i光明。 

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石英巖的原巖可以是：單礦物石英砂巖，含泥質、鈣質石英砂巖，膠體沉積的硅質巖（包括陸源碎屑溶解再沉積的硅質巖和與火山噴氣有關的硅質巖）和深海蟲硅質巖等。不同原巖形成的石英巖，可根據結構、變晶程度、副產物、巖石共生組合及產狀等加以區分。