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              北京高純乙炔推薦廠家「新樺氣體」

              發(fā)布時(shí)間:2021-09-18 20:58  

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              工業(yè)氣體種類(lèi)比較多,但大致可以分為兩類(lèi),一類(lèi)是一般工業(yè)氣體,另一類(lèi)是特種工業(yè)氣體。據(jù)介紹說(shuō),這兩種工業(yè)氣體相比較而言,一般工業(yè)氣體產(chǎn)銷(xiāo)量大,但對(duì)純度要求不高;特種氣體產(chǎn)銷(xiāo)量雖小,但根據(jù)不同的用途,對(duì)不同特種氣體的純度或組成,以及有害雜質(zhì)允許的高含量,產(chǎn)品的包裝貯運(yùn)等都有極其嚴(yán)格的要求,屬于高技術(shù)、高附加值產(chǎn)品。

              工業(yè)氣體作為現(xiàn)代工業(yè)重要的基礎(chǔ)原料,應(yīng)用范圍十分廣泛,在冶金、鋼鐵、石油、化工、機(jī)械、電子、玻璃、陶瓷、建材、建筑、食品加工、等部門(mén),均使用大量的常用工業(yè)氣體或特種工業(yè)氣體,因?yàn)闅怏w產(chǎn)品的應(yīng)用覆蓋面大,一般將氣體的生產(chǎn)和供應(yīng)與供電、供水一樣,作為工業(yè)投資環(huán)境的基礎(chǔ)設(shè)施,被視為國(guó)民經(jīng)濟(jì)命脈而被列為公用事業(yè)行業(yè)。




              二、有毒氣體,半導(dǎo)體氣體很多是對(duì)人體有害有毒,如PH3、ASH3、B2H6、CLF3、SIH2CL2、SIHCL3等;

              三、助燃?xì)怏w,這些高純氣體自身不能燃燒,但若與可燃物、可燃?xì)怏w接觸,將幫助燃燒,應(yīng)在儲(chǔ)運(yùn)使用中們加注意,如o2n2of2hf等窒息性氣體;

              四、還有氣體性質(zhì)穩(wěn)定,也無(wú)毒性,但當(dāng)它們排放在不通風(fēng)的場(chǎng)所時(shí),空氣中氧含量降到18%以下時(shí),因缺氧會(huì)使人呼吸困難,若不能及時(shí)解救也會(huì)有危險(xiǎn)甚至,這類(lèi)氣體有氮?dú)狻鍤舛趸肌⒑獾取?

              五、腐蝕性氣體,通常遇水就顯示其腐蝕性,如hcl、pocl3、hf等。許多氣體同時(shí)兼有多種性質(zhì),在這些氣體輸送、儲(chǔ)運(yùn)、使用中應(yīng)予重視。

              半導(dǎo)體生產(chǎn)用高純氣體不僅種類(lèi)多,而且更重要的是對(duì)氣體品質(zhì)在很?chē)?yán)格的要求。






              電子氣體的應(yīng)用及類(lèi)別!

              自從半導(dǎo)體問(wèn)世以來(lái),高純度電子氣體的可靠供應(yīng)在電子行業(yè)是至關(guān)重要的。首先通過(guò)不同的氣體流把雜質(zhì)原子引入到半導(dǎo)體材料來(lái)生產(chǎn)個(gè)別半導(dǎo)體元件,然后加以混合,再送進(jìn)名為外延生長(zhǎng)過(guò)程的反應(yīng)容器中。

              在制造集成電路的過(guò)程中,超過(guò)30種不同的電子氣體被用于蝕刻沉積氧化摻雜,和惰性保護(hù)的應(yīng)用。現(xiàn)代晶片電路的嚴(yán)格要求規(guī)定,百萬(wàn)份數(shù)十億份甚至萬(wàn)億份的水平的微量雜質(zhì)將導(dǎo)致重大的缺陷,并由于高廢品率導(dǎo)致成本增加。

              一個(gè)典型的半導(dǎo)體生產(chǎn)廠的輔助設(shè)施提供包括以下幾類(lèi)電子氣體:

              ?氮?dú)馔ǔ@梅蛛x空氣在現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)。它被廣泛使用在許多過(guò)程中作為提供惰性環(huán)境或一個(gè)過(guò)程完成后的反應(yīng)氣體。

              ?氧氣也可以在現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)或以低溫液體交付。它使用于把硅氧化-是所有半導(dǎo)體制造中關(guān)鍵的過(guò)程之一。

              ?氬通常以低溫液體交付,并用于為金屬的濺射沉積提供惰性環(huán)境,因?yàn)榈獨(dú)獾姆磻?yīng)性高而導(dǎo)致形成金屬氮化物。

              ?氫氣可以在現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)、以低溫液體或壓縮氣體交付-這取決于消耗速率。它是用于為金屬膜進(jìn)行退火時(shí)提供一種還原環(huán)境。







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