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發(fā)布時(shí)間:2020-12-24 18:07  
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在芯片制造領(lǐng)域,光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個(gè)形象的比喻,光刻機(jī)是芯片制造的魂,蝕刻機(jī)是芯片制造的魄,如果要想制造的芯片,這兩個(gè)東西都必須。
而在光刻機(jī)方面,與世界的7nm制程都相去甚遠(yuǎn)。不管三星、英特爾還是臺(tái)積電在芯片制程工藝方面如何去競(jìng)爭(zhēng),但ASML終究是背后霸主,贏家,因?yàn)樗麄冋l都離不開他的EUV光刻機(jī)。而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還在路上,目前我國(guó)已經(jīng)能夠使用365納米波長(zhǎng)的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片,這在全世界尚無先例,它也被稱為世界上首臺(tái)分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)可以使用低成本光源,實(shí)現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別:光刻機(jī)把圖案印上去,然后刻蝕機(jī)根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案(或者沒有圖案)的部分,留下剩余的部分。刻蝕相對(duì)光刻要容易。如果把在硅晶體上的施工比成木匠活的話,光刻機(jī)的作用相當(dāng)于木匠在木料上用墨斗劃線,刻蝕機(jī)的作用相當(dāng)于木匠在木料上用鋸子、鑿子、斧子、刨子等施工。蝕刻機(jī)和光刻機(jī)性質(zhì)一樣,但精度要求是天壤之別。木匠做細(xì)活,一般到毫米就行。做芯片用的刻蝕機(jī)和光刻機(jī),要到納米。現(xiàn)在的手機(jī)芯片,如海思麒麟970,高通驍龍845都是臺(tái)積電的10納米技術(shù)。10納米有多小呢?打個(gè)比方。如果把一根直徑是0.05毫米頭發(fā)絲,按軸向平均剖成5000片,每片的厚度大約就是10納米。現(xiàn)在先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭的ASML公司,到10納米。臺(tái)積電買的都是它的光刻機(jī)。ASML公司實(shí)際上是美國(guó)、荷蘭、德國(guó)等多個(gè)國(guó)家技術(shù)合作的結(jié)果。因?yàn)檫@方面的研究難度太大,單個(gè)國(guó)家完成不了。除了ASML,世界上只有我們還在光刻機(jī)上努力研發(fā)。

光刻機(jī)和刻蝕機(jī)的區(qū)別:
刻蝕相對(duì)光刻要容易。光刻機(jī)把圖案印上去,然后刻蝕機(jī)根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案(或者沒有圖案)的部分,留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓(或者叫硅片)上蓋上事先做好的光刻板,然后用紫外線隔著光刻板對(duì)晶圓進(jìn)行一定時(shí)間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質(zhì),易于腐蝕。
“刻蝕”是光刻后,用腐蝕液將變質(zhì)的那部分光刻膠腐蝕掉(正膠),晶圓表面就顯出半導(dǎo)體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對(duì)晶圓腐蝕,形成半導(dǎo)體器件及其電路。

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