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反滲透EDI工藝都是一個理想的選擇

EDI的凈水基本過程： （1）連續運行，產品水水質穩定 （2）容易實現全自動控制 （3）無須用酸堿再生 （4）不會因再生而停機，節省了再生用水及再生污水處理設施 （5）產水率高（可達95%）。 EDI裝置屬于精處理水系統，一般多與反滲透（RO）配合使用，組成預處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統，取代了傳統水處理工藝的混合離子交換設備。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm，反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。 對于高純水系統，無論從產水質量、性能和操作等方面考慮，還是從運行費用和環保等方面考慮，反滲透 EDI工藝都是一個理想的選擇。

EDI設備的污染判斷及清洗方法

EDI設備的污染判斷及清洗方法 雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內部阻塞的機會，但是隨著設備運行時間的延展，EDI膜塊內部水道還是有可能產生阻塞，這主要是EDI進水中含有較多的溶質，在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子（硬度超過0.8ppm）、CO2和較高的 PH 值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學清洗的方法對EDI膜塊進行清洗，使之恢復到原來的技術特性。

高純水設備性能優勢可連續,穩定地生產高品質純水

高純水設備性能優勢 可連續，穩定地生產高品質純水，無需因樹脂再生而停機。 無污染物排放，既環保又省去了廢液處理的投資。 設備結構緊湊，占地面積小，節省空間，同時還具有節能優點。 日常保養，操作簡單，勞動強度低。 主要應用行業 廣泛用于微電子工業，半導體工業，發電工業，制藥行業和實驗室,也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用高純水。