微弧氧化技術研究推薦貨源

微弧氧化槽液

       微弧氧化主要針對鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進行，但由于酸性電解液對環境污染性較大現已較少使用。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等，在單一或者它們的復合電解液中，增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等，以達到提高膜層生長速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化技術就是在電ji穿理論的基礎上加以研究和應用的新型表面力一技術。微弧氧化處理應根據基體材料的種類選用合適的電解液體系。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術

微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；在考慮簡化電源結構的基礎上，采用復合功率轉換電路的形式，即由前級向后級供電，由后級控制電流的設計方案。溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；但是普通的低溫釉工藝，燒結溫度高達900度，鋁鎂金屬的熔點是600多度，因此嚴重制約了微弧氧化后處理的發展，對終端消費品外殼的客戶來說，彩色是必備的選擇。第二步：將經靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線

微弧氧化

       在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全描述陶瓷層的形成。微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化電源因電壓要求較高(一般在510—700V之間)，需專門定制。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。