鎂合金微弧氧化標準全國發貨【日照微弧技術】

微弧氧化技術的發展

       微弧氧化技術是北京師范大學核科學與技術學院（低能核物理研究所）（北京市輻射中心）1992年起開發的科研課題，先后得到國家教委、國家九五863高技術研究發展計劃、國家自然科學基jin的大力支持。1997-1998年完成國家“863”計劃項目“等離子體微弧氧化表面改性技術”，1997年12月“鋁合金微弧氧化技術”通過國家教委和863專家組的聯合專家鑒定。目前，微弧氧化技術在國內外均未進入大規模工業應用階段，但該技術生成陶瓷膜的特點決定了其特別適合于對高速運動且耐磨、耐蝕性能要求高的部件處理。2002年微弧氧化設備獲得國家重點新產品證書，2004年微弧氧化雙極性大功率脈沖電源獲得發明專利。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

       微弧氧化的原理

       微弧氧化通過讓氧與鋁結合，使鋁合金（輕質但硬度、耐蝕性不足）表面原位生成一層氧化鋁陶瓷，使其表面變得質硬且耐蝕，進而達到了延長材料使用壽命的目的。同時，微弧電子學又是一種新型‘塑形’技術，通過負電性等離子體對材料進行納米尺度選取剝離，實現以非接觸式方式加工出精密零件，具有廣闊的應用前景。(1)涂裝效率高，涂料損失小，涂料的利用率可達90%～95%。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

微弧氧化膜層的性能能夠達到何種程度？

       一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因為從生成物來看，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結合力，對膜層整體性能不利。微弧氧化技術、微弧氧化技術優勢、微弧氧化電源、微弧氧化生產線。因此，一般很少單獨強調某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調制，在滿足特殊需求的基礎上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據需求對膜層厚度、溶液成分等進行調制，滿足耐蝕400小時、600小時等特殊需求。