真空鍍膜機報價 至成鍍膜機廠家供應

鍍膜過程中產生噴點主要有以下幾種原因:

1、鍍膜材料純度不高，含雜質較多,預熔過程中無法將這些雜質去除,蒸鍍過程中雜質濺上工件表面形成噴點。

2、材料較為潮濕,預熔時電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化,在蒸鍍過程中也容易產生噴點(這種情況在用國產電子槍鍍制MgF2及一些直接升華的材料時較易發生)。

3、鍍膜前對材料進行預熔時不夠充分,蒸鍍過程中材料里的細小顆粒濺上工件表面形成噴點。

4、鍍膜過程中,電子槍束流過大引起的材料飛濺產生的噴點。

鍍膜機鍍膜工藝的時候該如何調試和掌控均勻性

從開機，到鍍膜整套流程完成，都離不開調試機器機這一環節，因此想要成為一位專業的鍍膜技術人員，調試鍍膜機方法和技巧是必須要掌握的要領。特別是新員工，剛上手鍍膜工藝的時候，經常會出現鍍膜機調試不達標，鍍膜均勻性把控不好，因此而煩惱。下面至成真空小編為大家講解一下，關于真空鍍膜機該如何進行時調試和鍍膜的時候如何把控好鍍膜均勻性，才能順利完成鍍膜整個流程。

首先需要先測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；然后再測試設備的密封性能，就是抽到極限后保壓1小時看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；第三步，產品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；如果有工藝保證的話就繼續打樣并作測試；并且所有的測試應作記錄，并有記錄人簽字以及有使用部門或工程部門的人確認簽字即可。對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。

金屬帶鍍膜設備

HCMRC系列采用模塊化設計，是用于薄膜鍍膜的靈活生產工具。通過我們各種技術的獨特組合，可以生產高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。

不銹鋼帶卷繞鍍膜設備采用公司新開發的磁控濺射鍍膜技術、陰極電弧離子鍍膜技術及獨特設計的離子源輔助沉積鍍膜技術等多種技術組合，成功應用在大卷徑寬幅高真空連續卷繞鍍膜設備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴展應用范圍。

模塊化設計概念，帶材糾偏系統、等離子體預處理、磁控濺射系統、在線測量和工藝控制系統、電子束蒸發靈活組合。膜層均勻性好，沉積，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續鍍膜生產線的良好選擇。

切削工具真空鍍膜機

切削工具真空鍍膜機可以提高工具的切削速度和給刀量，降低加工的時間和成本，更長的使用壽命降低了工具更換的成本，涂層具備的熱穩定性、熱硬度和能力、低摩擦系數和低粘附傾向。真空鍍室的真空密封和室內運動部件的設計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發源，或配多個矩形平面電弧蒸發源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應活性，提高膜層致密性和結合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩定性。