微弧氧化生產(chǎn)線供應(yīng)商的用途和特點(diǎn)「多圖」

微弧氧化

       微弧氧化又稱(chēng)等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過(guò)電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用，原位生長(zhǎng)出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽(yáng)極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。在微弧氧化過(guò)程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過(guò)程非常復(fù)雜，至今還沒(méi)有一個(gè)合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。

微弧氧化使用范圍

       由于微弧氧化技術(shù)具有工藝過(guò)程簡(jiǎn)單，占地面積小，處理能力強(qiáng)，生產(chǎn)，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)，因此在機(jī)械，汽車(chē)，，電子，航天航空及建筑民用等工業(yè)領(lǐng)域有著極其廣泛的應(yīng)用前景。主要可用于對(duì)耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強(qiáng)化處理；同時(shí)也可用于建筑和民用工業(yè)中對(duì)裝飾性和耐磨耐蝕要求高的鋁基材的表面處理。也可通過(guò)改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)

微弧氧化工藝研究

        微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對(duì)氧化膜的厚度、結(jié)構(gòu)與性能的影響方面。 指出，電流密度對(duì)微弧氧化膜厚度有著決定性影響。影響微弧氧化效果的因素一、電流密度(1)電流密度越大，氧化工業(yè)鋁型材的生長(zhǎng)速度越快，工業(yè)鋁型材厚度不斷增加,但易出現(xiàn)燒損現(xiàn)象。在含有濃度6%水玻璃的電解液中，使用工業(yè)交流電源，對(duì)兒種不同鋁合金，依零件的不同幾何形狀和尺寸，電流密度在1--50A / cm2范圍內(nèi)，經(jīng)60次微弧氧化實(shí)驗(yàn)的結(jié)果表明，形成的氧化膜厚度與電流密度成線性關(guān)系。