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氮化鈦的結構及性能

TiN具有典型的NaCl型結構，屬面心立方點陣，面心立方的頂部是氮原子，鈦原子位于面心立方的(1/2,0,0)空間位置。TiN是非化學計量化合物，其穩定的組成范圍為TiN0.6~TiN1.16，氮的含量可以在一定的范圍內變化而不引起TiN結構的變化。TiN粉末一般呈黃褐色，超細TiN粉末呈黑色，而TiN晶體呈金黃色。TiN的晶格常數為a=4.23 nm，TiC的晶格常數為a=4.238 nm，TiO的晶格常數為a=4.15 nm，這三種物質的晶格參數非常接近，所以TiN分子中的氮原子可以被氧、碳原子以任意比取代形成固溶體，氮化鈦的理化性質由氮元素的含量來決定，當氮元素含量減少時，氮化鈦的晶格參數反而增大，硬度也會有顯微的增大，但氮化鈦的抗震性隨之降低。 次數用完API KEY 超過次數限制

PVD涂層（離子涂層）技術的主要特征和優點與真空蒸發涂層和真空濺射涂層相比，PVD離子涂層具有以下優點：1.薄膜層與工件表面具有很強的結合力，更耐用，更耐磨。2.成膜速度快，生產效率gao。3.各種各樣的可涂層。PVD技術的發展PVD技術出現于20世紀70年代后期，制備的薄膜具有硬度高，摩擦因數低，耐磨性好和化學穩定性等優點。在高速鋼切削刀具領域的成功應用引起了全球制造業的極大關注。在開發高xing能和高可靠性的涂層設備時，他們還在硬質合金和陶瓷切削刀具中進行了更深入的涂層應用研究。 次數用完API KEY 超過次數限制

在室溫(25℃)和氣體壓力為p(Pa)的條件下，殘余氣體分子的平均自由程為λ=6.65×10-1/pcm(2)由上式計算可知，在室溫下，p=10-2Pa時，λ=66.5cm，即一個分子在與其它分子發生兩次碰撞之間約飛行66.5cm。碰撞圖2是蒸發粒子在飛向基片途中發生碰撞的比例與氣體分子的實際路程對平均自由程之比值的曲線。從圖中可以看出，當λ=L時，有63%的蒸發分子會發生碰撞。如果平均自由程增加10倍，則散射的粒子數減少到9%，因此，蒸發粒子的平均自由程必須遠遠大于蒸距才能避免蒸發粒子在向基片遷移過程中與殘余氣體分子發生碰撞，從而有效地減少蒸發粒子的散射現象。目前常用的蒸發鍍膜機的蒸距均不大于50cm。 次數用完API KEY 超過次數限制