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鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)

1. 光學系統(tǒng)：中階梯二維分光光學系統(tǒng)，焦距400mm

2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規(guī)格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器，小巧有效

5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限

6. 自動匹配調(diào)節(jié)

7. 全組裝式炬管，降低了維護成本

8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能

9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好：重復性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩(wěn)定性：RSD

≤2.0%（大于3小時）

Plasma 2000 技術(shù)特點

1.  優(yōu)異的光學系統(tǒng)

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動化，狀態(tài)監(jiān)控及自動保護

4.  科研級檢測器，極高的紫外量化效率

5.  強大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強大

9.  智能譜圖標定

10. 智能干擾矯正

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由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產(chǎn)品樣機將于年內(nèi)完成；ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調(diào)試，采集到正確的譜圖，這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關(guān)鍵、難點技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項目任務和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務奠定了堅實的基礎(chǔ)。

鋼研納克“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目順利通過驗收

2016年4月12日，北京市科學技術(shù)會在鋼研納克永豐產(chǎn)業(yè)基地主持召開了國家重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目(項目編號2011YQ140147)初步驗收會議。

本次初步驗收會由李建玲處長主持，會議成立了項目初步驗收技術(shù)組，金國藩院士作為組組長。組聽取了項目及各承擔單位的匯報，審閱了相關(guān)資料，進行了現(xiàn)場檢查，經(jīng)質(zhì)詢和討論，終形成了驗收評審意見。

和一致認為項目驗收材料齊全、規(guī)范，符合驗收要求。項目成功開發(fā)出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的ICP全譜光譜儀、ICP質(zhì)譜儀兩種痕量分析儀器整機，實現(xiàn)推廣應用;攻克了ICP射頻源、四極桿射頻源、激光燒蝕固體直接進樣系統(tǒng)、多位自動進樣裝置、基于中階梯光柵和大面積CCD采集的高分辨二維分光系統(tǒng)、碰撞反應池、中階梯光柵刻劃、四極桿等關(guān)鍵部件、關(guān)鍵技術(shù)及核心元器件技術(shù)和工藝難題;針對國內(nèi)用戶的普遍特點和特殊需求，在儀器中集成了多功能開放性軟件、譜線和分析方法數(shù)據(jù)庫，提升國產(chǎn)分析儀器的國際競爭力。項目執(zhí)行期內(nèi)共完成了分析方法、應用、對比報告51篇，形成行業(yè)標準8項，38項(其中授權(quán)19項)，軟件著作權(quán)4項，發(fā)表65篇。項目預期目標全部實現(xiàn)。

在工程化和產(chǎn)業(yè)化方面，項目牽頭單位已經(jīng)在永豐建成ICP光譜儀、ICP質(zhì)譜儀產(chǎn)業(yè)基地，將可靠性管理的理論、工具、方法和裝備應用于分析儀器開發(fā)的全流程，建立了完整的質(zhì)量管理體系，建設了ICP射頻源、激光燒蝕進樣系統(tǒng)、ICP全譜光譜儀、ICP質(zhì)譜儀4條生產(chǎn)線。ICP全譜光譜儀已經(jīng)獲得生產(chǎn)許可證書，產(chǎn)品已經(jīng)銷售至寧夏、浙江、山東、新疆、湖南、河南及國外(伊朗)等地，產(chǎn)品經(jīng)過安裝和調(diào)試，均順利通過驗收。