鎂合金微弧氧化加工廠常用解決方案「日照微弧技術」

微弧氧化

       微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。微弧氧化技術、微弧氧化生產線2、微弧氧化技術絕緣性好耐熱性高，可承受高溫使用，范圍根據基材熔點溫度有良好的絕緣性能，絕緣電阻膜阻>。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。

微弧氧化膜的性能特點

1. 硬度極高，可達1500-2000HV.比一般陽極氧化或電鍍處理高許多；

2. 耐磨性；

3. 耐腐蝕性好，耐中性鹽霧可達2000h以上；

4. 絕緣性能良好；

5. 附著力良好，將工件加熱至300℃，立即浸入冷水中，反復數次都未發現氧化膜掉落。微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化生產線、微弧氧化電源的好處、微弧氧化廠家

氧化電壓對鋁等輕金屬微弧氧化效果的影響

1、低壓生成的工業鋁型材孔徑小、孔數多,高壓使工業鋁型材孔徑大,孔數少,但成工業鋁型材速度快；

2、電壓過低，成工業鋁型材速度小，工業鋁型材層薄，工業鋁型材顏色淺，硬度也低。電壓過高，易出現工業鋁型材層局部擊穿，對工業鋁型材層的耐蝕性不利。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化工藝、微弧氧化技術

微弧氧化

       微弧氧化，是在電解質溶液中（一般是弱堿性溶液）施加高電壓（直流、交流或脈沖）在材料表面原位生長陶瓷氧化膜的過程，該過程是物理放電與電化學氧化、等離子體氧化協同作用的結果。在考慮簡化電源結構的基礎上，采用復合功率轉換電路的形式，即由前級向后級供電，由后級控制電流的設計方案。微弧氧化技術是在普通陽極氧化技術的基礎上發展起來的，進一步提高電壓，使電壓超出法拉第區，達到氧化膜的擊穿電壓，就會在陽極出現火花放電現象，在材料表面形成陶瓷氧化膜，使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的，又保持了陽極氧化膜與基體的結合力。