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光學真空鍍膜設備該如何進行保養

光學真空鍍膜設備主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。光學真空鍍膜設備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有的性能。

光學真空鍍膜設備工作原理是在高真空狀態下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發源至被蒸發基片距離大，蒸發出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成臘層。

多弧離子真空鍍膜機的由來

我國在真空鍍膜行業，目前更多的應用都集中在裝飾方面，對能有效地提高關鍵部件使用壽命機械功能薄膜的制備設備、工藝及應用研究方面還遠遠落后于國外先進水平。同時，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發展，之前的離子鍍膜機已體現出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術的研發成功，將打破國內機械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國外技術的被動局面；對提高我國裝備制造業的技術水平和真空離子鍍的技術發展都是一個非常好的示范作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應用于其它關鍵部件中，起到了非常好的節約能源和提率的示范作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對環境保護起到很好的作用。

目前，國際上機械功能硬質薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術，但陰極電弧沉積存在的主要技術問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應用性能；特別是國內制造的陰極電弧沉積設備顆粒問題尤為嚴重。在此技術基礎上引入磁過濾技術，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產周期長，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產應用。而磁控濺射技術所制備的膜層表面光潔、細膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結合力上不如陰極電弧技術所制備的膜層；在進行化學反應性鍍膜（如TiN、TiO2）時，由于金屬粒子的離化率低、反應活性差，必須過量通入反應性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學反應），引起蒸發速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應鍍膜存在著不穩定性和不可控性。

PVD技術都有那些分類呢

？PVD真空鍍膜機物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質源是固態物質，經過“蒸發或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態物質涂層。PVD鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。那么這兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。

在現階段，PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進行PVD鍍膜前，都需要先對它們進行化學電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應用在一些比較五金制品上，對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學電鍍而不做PVD鍍膜。