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              金華制版公司服務為先「蘇州制版」

              發布時間:2021-05-01 15:44  

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              光掩膜除了應用于芯片制造外,還廣泛的應用與像LCD,PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分,基板和不透光材料。基板通常是高純度,低反射率,低熱膨脹系數的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。光學掩模板的應用光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成電路)芯片,還應用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。鉻的硬度比玻璃略小,雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。




              光刻版在使用過程中不可避免的會粘上灰塵、光刻膠等污染物,這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。為了保證光刻版潔凈,必須定期對光刻版進行清洗,而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設備上的合理配置有著密切的聯系。




              石英巖是一種主要由石英組成的變質巖(石英含量大于85%),是石英砂巖及硅質巖經變質作用形成。一般是由石英砂巖或其他硅質巖石經過區域變質作用,重結晶而形成的。也可能是在巖漿附近的硅質巖石經過熱接觸變質作用而形成石英巖。








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