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              發布時間:2021-01-01 05:09  

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              真空鍍膜機操作程序

              ① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。

              ② 打開總電源開關,設備送電。

              ③ 低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。

              ④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位,保證無任何雜質污物。

              ⑤ 落下鐘罩。

              ⑥ 啟動抽真空機械泵。

              ⑦ 開復合真空計電源(復合真空計型號:Fzh-1A)。


              真空鍍膜化學成分

              厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。


              真空鍍膜技術由于基本都是處于真空環境下進行的,因此稱它們為真空鍍膜技術。產品鍍膜過程為真空環境,真空度極高。鍍膜機內氣壓極低,產品中的添加劑、油脂、水分均會溢出,所以產品注塑時不可打脫模劑,不可添加增塑劑,不可直接加色粉成型。


              真空鍍膜材料即是通過真空鍍膜技術鍍到基材上的成膜材料,以金屬和金屬氧化物為主。鍍膜材料的性質直接關系到真空鍍膜的質量和性能,鍍膜材料不同,厚度不同,所得鍍膜層性能和色澤也不一樣。如鍍鋁層的連續性好于銀、銅鍍膜層,鍍層厚度達到0.9nm即可導電,達到30nm時,其性能就和固態鋁材相同。銀鍍層小于5nm時不能導電,銅鍍層對基材附著力較差,且容易被氧化。5-2KV的負電壓,使基板的前端產生暗區(darkpace),在此狀態下由蒸發源放出的金屬蒸氣在輝光放電的電漿(plasma)中形成離子,再被暗區加速后打到基板形成披覆。



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