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光學薄膜的定義

由薄的分層介質構成的，通過界面傳播光束一類光學介質材料，光學薄膜的應用始于20世紀30年代，光學薄膜已經廣泛用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。制備條要求件高而精。

光學薄膜的定義是：涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層，通過分層介質膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態的光。

光學薄膜在我們的生活中無處不在，從精密及光學設備、顯示器設備到日常生活中的光學薄膜應用;比方說，平時戴的眼鏡、數碼相機、各式家電用品，或者是防偽技術，皆能被稱之為光學薄膜技術應用之延伸。倘若沒有光學薄膜技術作為發展基礎，近代光電、通訊或是鐳射技術將無法有所進展，這也顯示出光學薄膜技術研究發展的重要性。

光學薄膜系指在光學元件或獨立基板上，制鍍上或涂布一層或多層介電質膜或金屬膜或這兩類膜的組合，以改變光波之傳遞特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經由適當設計可以調變不同波段元件表面之穿透率及反射率，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。

一般來說，光學薄膜的生產方式主要分為干法和濕法的生產工藝。所謂的干式就是沒有液體出現在整個加工過程中，例如真空蒸鍍是在一真空環境中，以電能加熱固體原物料，經升華成氣體后附著在一個固體基材的表面上，完成涂布加工。日常生活中所看到裝飾用的金色、銀色或具金屬質感的包裝膜，就是以干式涂布方式制造的產品。但是在實際量產的考慮下，干式涂布運用的范圍小于濕式涂布。濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液態涂料干燥固化做成產品。

真空鍍膜技術優點

鍍層附著性能好：普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

繞鍍能力強：離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。

因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。

鍍層質量好：離子鍍的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質量，還會產生。所以在生產中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關鍵參數之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數值。而實際生產過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產生一定的變化，而出現不均勻現象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區的變化情況就可以驗證。

電子束鋼帶真空鍍膜機有許多長處有哪些

1、可選擇的鍍膜資料多而不受資料熔點約束。因而，除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫以外，簡直一切的金屬資料都能夠蒸鍍，還可鍍品種許多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。這為開展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。

2、鍍膜資料利用率高，環境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜，沒有有害液體、氣體的發生。

3、帶鋼鍍膜質量好，能取得均勻、滑潤且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經電子束預熱外表活化，鍍膜純度高，沒有中心硬脆的合金層，能夠一次沖壓成型，甚至能夠卷成直經很小的管而不掉落鍍層。

4、技能靈敏，改動品種方便，能夠依據商品請求靈敏地完成在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，能夠一同鍍兩種資料到達鍍混合膜。鍍膜厚度易于操控，并且能夠鍍制超薄膜。