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PVD是物理氣相沉積技術的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術，常見的PVD沉積技術有：蒸發技術、濺射技術、電弧技術。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護性鍍層,但主要以添加防護性鍍層(金屬鍍層、有機物鍍層和復合鍍層)為主。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢。防護性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學鍍、物理氣相沉積等。

真空鍍膜設備如何操作？

真空鍍膜設備操作程序具體操作時請參照該設備說明書和真空鍍膜機上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。

檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在'關'位置。打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。

低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

把薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。

啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。

如何正確使用真空鍍膜設備。

機床的正常進行運行的情況下，啟動機器，要先打開水管，應始終注意提高工作水壓力。

同時離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不能接觸，防止觸電。涂層中的電子槍，鋁的外鐘。建議用鉛玻璃觀察窗玻璃，應戴眼鏡觀察鉛玻璃，防止射線照射人體。多層介質膜涂層的沉積應配備通風除塵設備，及時清除有害粉塵。