鹽田化學氣相沉積加工服務至上 東莞拉奇納米鍍膜

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。真空條件下制備薄膜，環境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。

物理氣相沉積：在真空狀態下，鍍膜材料經蒸發或濺射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

真空鍍膜技術具有下列優點：

薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。

鍍膜技術都需要一個特定的真空環境，以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾。

由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。

真空鍍膜加工是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。

真空微米涂裝是一種新型的涂裝技術。真空氣相沉積制程，是在常溫的真空室中，讓活性分子在被涂裝的物件表面生成披覆的聚合物薄膜。 可涂裝到任何形狀的表面，且不產生死角。包括尖銳的錂角隙縫內部與極細微的中。膜厚均可達到一致性的被覆在產品的任何部位。 

真空鍍膜加工是保證真空鍍膜鍍膜質量的關鍵。鍍膜操作：待真空鍍膜鍍件上架并裝上鎢絲，然后入爐，檢查接觸是否良好，轉動正常，關真空鍍膜真空室，抽真空。

在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

納米鍍膜技術及研發使用配方, 能在金、銀、鎢、鈷、鈀等不同表面形成2-10nm厚度左右的鍍層，從而使金屬表面具有良好的耐磨性、導電性能、耐腐蝕、耐高溫、防氧化及改變表面張力等特性，從而提升材料性能，可以的改善產品品質。