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              制版報價推薦 制版

              發布時間:2020-10-27 09:16  

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              一種具有保護環的光刻板,包括光刻板本體和設置在光刻板本體外圈的保護環,所述保護環緊密圍在光刻板本體的外部邊緣處并將內部的光刻板本體圍起,所述保護環上具有圓型開孔、直角型開孔與直線型開孔,所述直角型開孔設置在光刻板本體的轉角處,所述直線型開孔設置在光刻板本體的水平邊緣與豎直邊緣,所述圓型開孔設置在直角型開孔與直線型開孔的連接處。光掩膜所起的作用類似于底片之于相片,光刻通過光掩膜在芯片上顯影。





              光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機電系統)等。光刻(英語:photolithography)是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。






              制版(platemaking)是將原稿成印版的統稱。有將鉛活字排成活字版,以及用活字版打成紙型現澆鑄成凸版和將圖像經照像或電子分色獲得底片,用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。干版涂附的乳膠,硬度小且易吸附灰塵,不過干版還有包膜和超微顆粒干版,其中后者可以應用于芯片制造。在制版中影響印版質量的因素,主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時間以及顯影液的循環攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。

              PS版的顯影時間主要由PS版的種類、曝光時間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來確定。當上述條件確定制版機后,PS版的顯影程度與顯影時間成正比關系,即顯影時間越長,顯影越徹底。但顯影時間過長會產生網點縮小等現象。







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