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發(fā)布時(shí)間:2020-11-04 02:11  
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若曝光過(guò)度,會(huì)造成顯影困難,也會(huì)在電鍍過(guò)程中產(chǎn)生起翹剝離,形成滲鍍。所以,解決的工藝措施就是嚴(yán)格控制曝光時(shí)間,每種類型的干膜在起用時(shí)應(yīng)按工藝要求進(jìn)行測(cè)量。如采用瑞士頓21級(jí)光楔表,級(jí)差0.15,以控制6-9級(jí)為宜。曝光時(shí)間過(guò)長(zhǎng)。當(dāng)曝光過(guò)度時(shí),紫外光透過(guò)照相底片上透明部分并產(chǎn)生折射、衍射現(xiàn)象,照射到照相底片不透明部分下的干膜處,使本來(lái)不應(yīng)該發(fā)生光聚合反應(yīng)的該部分干膜,被部分曝光后發(fā)生聚合反應(yīng),顯影時(shí)就會(huì)產(chǎn)生余膠和線條過(guò)細(xì)的現(xiàn)象。因此,適當(dāng)?shù)目刂破毓鈺r(shí)間是控制顯影效果的重要條件。