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要想鍍出堅固的鈦層，首先要有好的設備。因為在鍍膜過程中，真空系統必需要工作穩定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴重的還會脫鈦。好的設備弧源離化率高，形成的離子密度大，大顆粒少，鍍出的膜層光滑度高，磨擦系數小，堅固不脫落，差的設備離化率低，鍍出來的膜層粗糙沒光澤，容易刮花脫落。

在高真空并且高溫的鍍鈦環境中，加入不同的氣體能鍍出不同的顏色。如加入N2，鍍出來的顏色是金色；加入C2H2，顏色就是黑色；加入O2，顏色就會是彩色和藍色；如加入N2和C2H2，顏色就會是玫瑰金色。在鍍鈦過程中，使用的物質是鈦和高純氣體，都是綠色環保的材料，由于是在高溫真空環境中生產，不會產生任何有害物質，所以鍍出來的產品是非常安全環保的，可以通過各種安全測試。 次數用完API KEY 超過次數限制

殘余氣體分子撞擊著真空室內的所有表面，包括正在生長著的膜層表面。在室溫和10-4Pa壓力下的空氣環境中，形成單一分子層吸附所需的時間只有2.2s。可見，在蒸發鍍膜過程中，如果要獲得高純度的膜層，必須使膜材原子或分子到達基片上的速率大于殘余氣體到達基片上的速率，只有這樣才能制備出純度好的膜層。這一點對于活性金屬材料基片更為重要，因為這些金屬材料的清潔表面的粘著系數均接近于1。在10-2Pa～10-4Pa壓力下蒸發時，膜材蒸汽分子與殘余氣體分子到達基片上的數量大致相等，這必將影響制備的膜層質量。 次數用完API KEY 超過次數限制

后處理，涂面漆。第三節濺射鍍膜濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。近年發展起來的規模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高，工藝重復性好，便于自動化，已適當于進行大型建筑裝飾鍍膜，及工業材料的功能性鍍膜，及TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag。第四節電弧蒸發和電弧等離子體鍍膜這里指的是PVD領域通常采用的冷陰極電弧蒸發，以固體鍍料作為陰極，采用水冷、使冷陰極表面形成許多亮斑，即陰極弧斑。弧斑就是電弧在陰極附近的弧根。 次數用完API KEY 超過次數限制

同時幾種涂層的硬度均高于HV3000，而且在高溫下可以有效的保持硬度，可以抵御高溫金屬液體對模具造成的應力變形。有涂層公司針對此問題研發了真空PVD鍍膜涂層前處理的新技術，結合其它表面技術和真空PVD鍍膜涂層復合作用，在改善液體金屬粘模和熱龜裂方面取得了一定的成績。例如HCVAC研發了一款設備可以在同時完成壓鑄模具的軟氮化 真空PVD鍍膜涂層，有效的解決了傳統涂層和氮化基體之間結合力差的問題，進一步提高了壓鑄模具的使用壽命。還有大多數公司則采用厚涂層的概念通過沉積足夠厚度的涂層來提高模具的使用壽命。 次數用完API KEY 超過次數限制