NR9 3000P光刻膠廠家的用途和特點 北京賽米萊德

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五、曝光

在這一步中，將使用特定波長的光對覆蓋襯底的光刻膠進行選擇性地照射。章宇軒介紹,我們在日常工作生活中，之所以能從顯示屏幕上看到色彩斑斕的畫面，就是離不開屏幕中厚度只有2μm、卻占面板成本16％的一層彩色薄膜。光刻膠中的感光劑會發(fā)生光化學反應，從而使正光刻膠被照射區(qū)域（感光區(qū)域）、負光刻膠未被照射的區(qū)域（非感光區(qū)）化學成分發(fā)生變化。這些化學成分發(fā)生變化的區(qū)域，在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。

在接受光照后，正性光刻膠中的感光劑DQ會發(fā)生光化學反應，變?yōu)橐蚁┩⑦M一步水解為茚并羧酸（Indene-Carboxylic-Acid, CA），羧酸在堿性溶劑中的溶解度比未感光部分的光刻膠高出約100倍，產(chǎn)生的羧酸同時還會促進酚醛樹脂的溶解。呼吸器：無論何時在工作環(huán)境下呼吸保護必須遵循中國職業(yè)安全健康管理局標準的規(guī)定和ANSI美國國家標準學會Z88。利用感光與未感光光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度，就可以進行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。

曝光方法：

a、接觸式曝光（Contact Printing）掩膜板直接與光刻膠層接觸。

b、接近式曝光（Proximity Printing）掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm。

c、投影式曝光（Projection Printing）。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實現(xiàn)曝光。

d、步進式曝光(Stepper)

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4,曝光

前烘好的存底放在光刻膠襯底放在光刻機上，經(jīng)與光刻版對準后，進行曝光，接受光照的光刻膠發(fā)生化學變化，形成潛影，

光源與光刻膠相匹配，也就是光源波長在光刻膠的敏感波段；

對準：指光刻板上與襯底的對版標記應準確對準，這樣一套光刻版各版之間的圖形才能彼此套準。

曝光時間，由光源強度，光刻膠種類，厚度等決定，

另外，為降低駐波效應影響，可在曝光后需進行烘焙，稱為光后烘焙（PEB）

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光刻膠存儲條件及操作防護

光刻膠是一種可燃液體，儲存條件應符合對應的法規(guī)，不要與強氧化劑混合，存放在通風良好的地方，保持容器密閉，避免吸入蒸汽或霧氣，避免接觸眼睛、皮膚或衣服，操作后徹底清洗。

個人防護

眼睛：佩戴化學飛濺護目鏡。

皮膚：戴上適當?shù)姆雷o手套防止皮膚暴露。

服裝：穿戴合適的防護服防止皮膚暴露。

呼吸器：無論何時在工作環(huán)境下呼吸保護必須遵循中國職業(yè)安全健康管理局標準的規(guī)定和ANSI美國國家標準學會Z88.2的相關要求，或必須執(zhí)行歐洲呼吸防護EN 149的標準。

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20．有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎？

A PC3-6000并不是光刻膠，它是用在chip

on glass 上的膠粘劑。

21．是否有Wax替代品？

A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定，比較容易去除掉。

22．貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料？

A 有，IC1-200就是

23．請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠？

A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟，都可以簡化。

24．一般電話咨詢光刻膠，我們應該向客戶咨詢哪些資料？

A 1 需要知道要涂在什么材質(zhì)上，2

還有要知道需要做的膜厚，3

還要知道光刻膠的分辨率

4還有需要正膠還是負膠，5

需要國產(chǎn)還是進口的

27．想找一款膜厚在120um，的光刻膠，有什么光刻膠可以做到啊！

A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex

NR21-20000P ，。

28．有沒有了解一款美國Futurrex

NR9-250P的光刻膠，請教下？

A 這是一款負性光刻膠，濕法蝕刻使用的，附著力很好，耐100度的溫度，國內(nèi)也有可以代理的公司，F(xiàn)uturre

光刻膠是世界第4大的電子化學品制造商，在光刻膠的領域有著不錯的聲譽，在太陽能光伏，和LED半導體行業(yè)都有不錯的市場占有率。

29．想找款膜厚的產(chǎn)品，進行蝕刻，有什么好推薦？

A 厚膜應用（thick

film applicati），主要是指高縱橫比（Aspect

ratios）,高分辨率，高反差，有幾款產(chǎn)品向你推薦一下《NR4-8000P，NR2-20000P，NR5-8000，這些產(chǎn)品都需要用到邊膠清洗液》

的光刻