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PLD 主要選件

離子輔助沉積 (IBAD)系統(tǒng)介紹

離子輔助沉積已經(jīng)成為在無(wú)規(guī)取向的基片或無(wú)定形基片上沉積雙軸結(jié)構(gòu)薄膜的一種重要技術(shù)。Neocera 開(kāi)發(fā)了離子輔助的PLD 系統(tǒng)，該系統(tǒng)將PLD 在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢(shì)與IBAD 能力結(jié)合在一起。

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脈沖激光沉積發(fā)展前景

由脈沖激光沉積技術(shù)的原理、特點(diǎn)可知，它是一種極具發(fā)展?jié)摿Φ谋∧ぶ苽浼夹g(shù)。隨著輔助設(shè)備和工藝的進(jìn)一步優(yōu)化，將在半導(dǎo)體薄膜、超晶格、超導(dǎo)、生物涂層等功能薄膜的制備方面發(fā)揮重要的作用；如果定義峰值功率為脈沖的能量除以脈沖的持續(xù)時(shí)間（脈寬），那么，在撤除人為加入的損耗情況下，就會(huì)在很短的時(shí)間內(nèi)以極快的速度產(chǎn)生脈沖寬度窄、峰值功率高的脈沖激光，通常稱為巨脈沖。并能加快薄膜生長(zhǎng)機(jī)理的研究和提高薄膜的應(yīng)用水平，加速材料科學(xué)和凝聚態(tài)物理學(xué)的研究進(jìn)程。同時(shí)也為新型薄膜的制備提供了一種行之有效的方法。

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