等離子化學(xué)氣相沉積專業(yè)團隊在線服務(wù)「拉奇納米」

在真空中，ParyleneN,和C和D薄膜體現(xiàn)出很高的抵抗伽瑪射線衰變的能力。張力和電氣性能在1.6Mr/h的劑量率下加到100Mr之后依舊保持不變。雖然Parylene在室內(nèi)穩(wěn)固，但建議不要在室外陽光直接照射的環(huán)境下長期使用。

Parylene（聚對,派瑞林）N,和C和HT吻合ISO-10993生物試驗要求。試驗包括細胞毒性、致敏作用、皮內(nèi)刺激性、急性系統(tǒng)性毒性、植入(對于C必要1、12和26周；對于N和Parylene HT必要1和12周)和血溶性試驗。在試管組織培養(yǎng)研究中注解，人類細胞類型容易在Parylene C涂敷外觀。Parylene N和C已被證實吻合USP Class VI(UDP第六類塑料的生物試驗要求)。

帕利靈(Parylene)是一族由對二合成的熱塑性塑料聚合物的通稱。它是在室溫條件下氣相沉積獲得的薄膜物質(zhì)，可以生成數(shù)百微米內(nèi)任何厚度的薄膜。利用真空沉積技術(shù)可以將膜厚精度控制在1μm。此外，真空沉積的帕利靈具有均一性、保形性，無微孔無缺陷，化學(xué)性質(zhì)不活潑等優(yōu)良特性。由于真空沉積不使用催化劑和溶劑，產(chǎn)出的薄膜很純凈，釋氣量很小。有3種成熟的帕利靈材料：C型、D型和N型，帕利靈C透水性和透氣性比其他兩種小很多，應(yīng)用廣泛。帕利靈C在溫度300K時太赫茲頻段的折射率大約為1.62，4.5K時降低到約1.5141。吸收系數(shù)約為數(shù)10cm-1量級。帕利靈C的這些特性使之成為硅、鍺材質(zhì)的透鏡和窗口的合適的抗反鍍膜材料。

等離子化學(xué)氣相沉積作為蒸發(fā)源的材料必須具備熔點高、揮發(fā)低、高溫冷卻后脆性小等性質(zhì)。常用的線狀蒸發(fā)源應(yīng)能與蒸發(fā)金屬相潤濕，熔點遠遠大于待鍍金屬的蒸發(fā)溫度，不與待鍍金屬發(fā)生反應(yīng)生成合金。

Parylene D是系列中的第三個成員，它由雷同的單體系方式成，只是將其中兩個芳香烴氫原子被氯原子庖代。Parylene D的性子與Parylene C相似，但是具有更高的耐熱能力。

放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法，即將反應(yīng)氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或濺射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法。