深圳真空磁控濺射鍍膜機廠家公司「在線咨詢」

中頻磁控濺射鍍膜設備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現象；減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數倍。

新研發平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

鍍膜行業發展的趨勢

當今鍍膜行業制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經受高溫，但在化學鍍膜制作的環境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及反應產物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

真空鍍膜設備需要的環境要求

真空鍍膜設備需要的環境要求 真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環境的要求。真空對環境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環境的要求，和對處于真空狀態或真空中的零件或表面要求兩個方面。 這兩個方面是有密切聯系的。周圍環境的好壞直接影響真空設備的正常使用；而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預期的真空度很難的。眾所周，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴重，結果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。

鍍膜設備工藝要求

鍍膜設備工藝要求： 真空度不得低于103PA，避免呈現褐色條紋或鋁層厚度不均表象;操控好體系張力，敞開冷卻體系，避免薄膜受熱呈現拉伸變形;準確操控卷取速度(280～320m/min)、送鋁速度(0.4～0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸騰舟加熱電流，以取得商品請求的鋁層厚度(100～300A°);可預先在薄膜上涂布必定干量的底膠，并充沛枯燥，再經真空鍍鋁，可進步鋁層與薄膜的結合力。然后在鋁膜上涂布必定量的維護樹脂，避免鋁層氧化蛻變。經此技術構成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易蛻變。