電子束蒸發鍍膜機廠家點擊了解更多 沈陽鵬程真空技術公司

DZS800型電子束鍍膜設備

主要用途：　　

用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，批量生產型。

系統組成:　　

系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、計算機系統及安裝機臺等部分組成。　　

技術指標：　　

極限真空度：≤6.7×10 Pa　　恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系統漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：真空室1200x9000 x800mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統　　

e型電子槍：陽極電壓：10kv(2套)　　坩堝：水冷式坩堝，24穴設計，每個容量11ml　　

功率：0-10KW可調　　電阻蒸發源(可選)　　

基片尺寸：可放置4″基片一次更換20個樣品　　

樣品臺：基片可連續回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發源之間距離350mm加熱溫度 400°C±1°C　　

氣路系統：質量流量控制器1路　　

石英晶振膜厚控制儀：監測膜厚顯示范圍：0-99μ9999?

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業電子束產品供應商，我們為您帶來以上信息。

電子束蒸鍍系統的特點

* 渦輪分子泵，串接機械泵或干泵

* pocket電子槍

* 電子束源和基片遮板

* 性能好的開關電源，杰出的消弧性能

* 自動Pocket索引以及可編程的掃描控制器

* 膜厚監測，可設置目標膜厚作為工藝終點條件

* 旋轉樣品臺，提供高均勻性

* 帶觀察視窗的腔門，便于放片/取片

* PC全自動控制，具有高度的可重復性

* Labview軟件的計算機全自動工藝控制控

* 多級密碼保護的授權訪問設計

* EMO保護以及完全的安全聯鎖

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電子束鍍膜機介紹

* 帶旋轉的傾斜沉積

* 行星式基片夾具

* 基片RF/DC偏壓

* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

* 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

* 用于反應蒸鍍的MFC

* 不同的泵組選擇，可升級分子泵為冷泵，前級泵為干泵

* 進樣室和自動上下片/可支持單片和25片片夾

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