真空鍍膜反光杯加工廠家優選企業「多圖」

佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業生產廠家，公司秉承“以質取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響 ：

靶功率；磁控濺射本身粒子初始動能比較小，離化率低，電源功率越大，濺射出的粒子的初始能量越大，靶材濺射量也越大，沉積速率越快，膜層容易上厚度和硬度，同時工件溫升也大，過高的功率會使沉積速率太快，粒子來不及表面遷移和擴散，易形成陰影效應，膜層會比較疏松，應力較大。目前已被廣泛應用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領域。

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真空度：真空度是指處于真空狀態下氣體的稀薄程度,用壓強表示,壓強越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過程中,真空度主要通過控制ya氣流量來改變。

ya氣越少，靶材濺射量越少，但真空度越高,氣體分子自由程越大，散射越少，粒子碰撞幾率越小，粒子遷移過程中損失的動量越少，沉積速率越大

真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中，然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發，當蒸發原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結形成具有一定厚度的沉積層日。

磁控濺射：

原理：磁控濺射法被認為是鍍膜技術中成熟的Zn0:A1薄膜制備方法，通常分為直流濺射（DC）和射頻濺射（IC）兩種。該方法是利用高能粒子轟擊靶材，使得靶材原子或分子被濺射出來并沉積到襯底表面的一種工藝。

優點：以濺射產率高、基片溫升低、薄膜基底結合力好、裝置性能穩定、操作控制方便等優點受到青睞，磁控濺射法可獲得高度c軸取向，表面平整度高，可見光透過率較高及低電阻率Zn0:A1的薄膜。