脈沖激光沉積裝置廠家常用解決方案【沈陽鵬程】

脈沖激光沉積細節介紹

很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力（>100 Torr）下冷卻是有利的。所有Pioneer 系統設計的工作壓力范圍。從它們的額定初始壓力到大氣壓力。這也有益于納米粒子的生成。

Pioneer PLD 系統的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。

為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體，消除油的回流對薄膜質量的影響，所有Pioneer 系統的標準配置都采用無油真空系統。

我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜質量的關鍵參數。Pioneer 系統采用可變的靶和基片的距離，對沉積條件進行較大的控制。

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脈沖激光沉積系統的特點有哪些？

?  超高真空不銹鋼腔體

?  可集成熱蒸發源或濺射源

?  可旋轉的耐氧化基片加熱臺

?  流量計或針閥準確控制氣體流量

?  標準真空計?  干泵與分子泵

?  可選配不銹鋼快速進樣室

?  可選配基片-靶材距離自動控制系統

?  是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設備

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