五金配件真空鍍膜設備的行業須知「多圖」

真空鍍膜機光學加工工藝發展情況及未來趨勢，中國的光學鍍膜零件冷加工在中華民國時期是非常稀少的，到二十世紀五十年代從蘇聯和東德國家引進光學加工技術，幾乎是過來的。 光學冷加工采用的是散粒磨料粗磨、精磨，古典式拋光。

加工效率低下，同時對操作者的技術要求較高，每個操作者都要經過多年的技術崗位培訓才能正式上崗工作。技術較好的工人可以從加工毛坯到拋光，獨自完成全線的工作。這時的光學冷加工主要依靠技術工人的技能和經驗加工零件，而工藝設計的作用在這個時期不是非常重要的。

總之，化學氣相沉積就是，利用氣態物質在固體表面上進行化學反應，生成固態沉積物的過程。其過程如下：

（1）反應氣體向工件表面擴散并吸附。

（2）吸附于工件表面的各種物質發生表面化學反應。

（3）生成物質點聚集成晶核并長大。

（4）表面化學反應中產生的氣體產物脫離工件表面返回氣相。

（5）沉積層與基體的界面發生元素的相互擴散，而形成鍍層。

CVD法是，將工件置于有氫氣保護的爐內，加熱到800℃以上高溫，向爐內通入反應氣體，使之在爐內熱解，化合成新的化合物沉積在工件表面。在模具的應用中，其覆膜厚度一般為6-10μm。

化學氣相沉積工藝是這樣一種沉積工藝，被沉積物體和沉積元素（單元或多元）蒸發化合物置于反應室，當高溫氣流進入反應室時，可控制的反應室可使其發生一種合適的化學反應，導致被沉積物體的表面形成一種膜層，同時將反應產物及多余物從反應室蒸發排除。

化學氣相沉積（簡稱CVD），也即化學氣相鍍或熱化學鍍或熱解鍍或燃氣鍍，屬于一種薄膜技術。常見的化學氣相沉積工藝包括常壓化學氣相沉積（NPCVD），低壓化學氣相沉積（LPCVD），大氣壓下化學氣相沉積（APCVD）。