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              上海光刻版優選企業“本信息長期有效”

              發布時間:2020-12-04 15:47  

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              公司產品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務!

              透明基板1、透明玻璃 。石英玻璃(Quartz Glass)蘇打玻璃(Soda-lime Glass)低膨脹玻璃(Low Expansion Glass)2、透明樹脂遮光膜(1)硬質遮光膜:鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。(2)乳膠。







              如需要烤版,烤版時要注意:①首先要選好烤版膠,烤版膠不能太臟。使用無掩模光刻機讀取版圖文件,對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光(曝光波長405nm),照射掩膜版上所需圖形區域,使該區域的光刻膠(通常為正膠)發生光化學反應經過顯影、定影后,曝光區域的光刻膠溶解脫落,暴露出下面的鉻層。如用固體桃膠配制,一定要用熱水溶膠,膠要徹底溶開、過濾再用。②把適量的烤版膠涂在版面上,用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤,圖像區域會均勻變色。不同的PS版,烘烤時間、溫度及終顏色會不一致,所以需通過試驗確定烤版條件。




              機顯時還要注意以下幾點:①要定期維護顯影機,以保證已曝光的PS版顯影能正常進行。光刻工藝是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結構,再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉換到襯底上。②在顯影之前必須保持各傳動輥清潔,若牽引輥不干凈,顯影時印版易粘上臟點。③如顯影機有涂膠裝置,一定注意膠輥要保持清潔,否則要弄臟印版。④一般情況下,陽圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。⑤上保護膠時,一定要均勻施膠,不能太厚,以免干后導致涂層龜裂和掉版。







              光刻掩膜版材質可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。

              石英掩膜版

              使用石英玻璃為基板材料,光學透過率高,熱膨脹率低,相比蘇打玻璃更為平整和耐磨,使用壽命長,主要用于掩膜版

              使用蘇打玻璃作為基板材料,光學透過率較高,熱膨脹率相對高于石英玻璃,平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版








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