無水硅水性石蠟乳液品牌企業 協宇品質保證

想了解蠟乳液等相關信息，可以來電咨詢廣州市協宇新材料科技有限公司無水硅水性石蠟乳液

“蠟”是一種高分子材料，其定義更偏重于表征，一般認為蠟系產品應具備以下特征：一、常溫下的固體物質2、超過其熔點后，材料粘度應該很低，呈液體狀。3、不溶于水。有些觀點認為部分水溶性高分子如固體丙烯酸樹脂基共聚物、松香等也應屬于蠟類產品，但考慮到涂料行業的傳統觀點，體系中以溶解狀態存在的水溶性高分子不算在蠟產品內。一般蠟類有：動植物蠟、礦物蠟、合成蠟、改性蠟等。下面介紹了幾種有代表性的產品和性能：1.石蠟全稱為石油蠟，它是石油煉制的副產品，通常指固體石蠟，主要成分為正構烷烴，熔點52-72℃，密度：0.880-0.915g/cm3，針入度(1/10 mm):15-20左右2.棕櫚蠟也被稱為“卡那巴蠟”：由巴西卡那巴葉提出，其主要成分是C20~C30，與C24~C30的蠟酸組成的酯類，熔點81~86℃，密度0.996~0.998.針入度1左右，硬度高，涂層光澤好，易拋光，易乳化，價格昂貴，有“蠟中”的美譽。

廣州市協宇新材料科技有限公司是做水性蠟乳液的無水硅水性石蠟乳液

3.聚乙烯蠟：又稱低分子量聚乙烯，通常分子量在1800~8000之間，分高密度聚乙烯和低密度聚乙烯兩類，具有較好的物理性能和化學穩定性，是一種重要的合成蠟。4.費托蠟，由C0和H2聚合而成，主要成分為正構烷烴，幾乎沒有支鏈，因而具有較強的熔點和硬度。針對今后石油化工可能的供應短缺，以煤化工為基礎的費托蠟市場前景廣闊。5.聚丙烯蠟：又稱低分子量聚丙烯，結晶度高，軟化點高，硬度大，有良好的物理性能和化學穩定性。因為蠟系產品不溶于水，不能直接用于水性系統，需要預制加工，同一蠟基材料加工成不同種類的產品，其性能和用途也完全不同。

苯丙乳液與石膏基體的水化產物相互擴散，增加了苯丙乳液中苯丙乳液的濃度，并在苯丙乳液的催化作用下，石膏的水化反應更加充分，形成了密度高于基體材料的界面結合層。在復合材料內部產生應力時，苯丙乳液層由于其本身的彈性變形，減輕了應力集中，防止裂紋的形成和擴展，有效地提高了石膏的耐水性。石蠟是一種內聚力較強的天然油性有機化合物，不溶于水，其制備的乳化蠟產品具有很好的抗粘連、疏水及特殊蠟感，因此其在皮革、紡織、涂料、人造板、陶瓷等行業的應用越來越廣。蠟乳劑特性乳液的粒徑是衡量乳液性能的一項重要指標。降低乳液粒度，可提高乳液的機械穩定性、儲藏穩定性和耐熱穩定性；減小乳液粒度，也能改善其滲透率、成膜性，以及提高耐溶劑性能。簡而言之，顆粒尺寸越小，乳化液相就越清。

TL-505A30是一種外觀清透的石蠟乳液，其平均粒徑較小，特別適用于水基清漆、水性上皮革涂飾劑和人造板等對光澤度要求較高的系統中。蠟質的作用，在涂料配方中加入蠟，能大大增強漆膜的手感、防劃傷、耐磨等性能，特殊蠟質可提供漆膜吸水性、抗回粘、拋光、砂紋等特殊性能，在漆膜、油墨、工業漆中應用十分廣泛。對于水基木器漆和水性油墨行業，對于蠟的應用也越來越重視，但大部分微粉蠟極性很小，在水體系分散后，不能形成穩定、均勻的分散液。因此水基體系將更傾向于使用蠟乳劑，但蠟乳劑的貯存、運輸、質保時間等都不如微粉蠟，這也讓我們重新審視微粉蠟，是否有適合分散、儲存穩定的水體系？

蠟乳液用于皮革涂飾中的添加劑添加蠟乳劑在皮革涂飾劑中主要起到涂飾、改善涂層手感、耐磨、防粘和增加光澤等作用。初期主要以、棕櫚蠟、蟲蠟、白蠟、蒙旦蠟等為原料制備蠟乳。近年來，由于其產量有限，價格昂貴，一直有將石蠟作為主要原料用于制取蠟乳。用石蠟作主料可以大幅度降低蠟乳液的價格，而且使用效果不比天然蠟差，是涂飾皮革的主要助劑，能賦予皮革特殊的光亮光澤和蠟感。按用途可分為軟、硬兩種，分別用于皮革的底層、中層和上層的涂飾；根據乳液的離子性質可分為非離子型、陰離子型、離子型蠟乳液，可與具有不同離子性能的涂飾劑配伍使用；從劑型上可制成乳液型或固體蠟乳。

蠟乳液作為皮革光亮劑、消光劑和手感劑2、建筑材料：蠟乳劑作為鋼筋混凝土固化劑。3、農業：為防止果樹、灌木等在冬季休眠或移栽裝運過程中失水枯死，采用噴蠟乳液的方法，蠟乳液主要用于：(1)栽植樹苗。松樹、桉樹的幼苗栽植前，先在蠟乳中浸種，處理后的樹苗能承受移植的影響，或耐逆境的氣候條件都有很大的提高。(2)種植園林苗圃。同時，采用乳化蠟液進行剪枝或移植，可明顯提高生存率。如果在旱季需要移植大量的灌木，事先噴蠟乳液可以保證移植的安全。(3)耐旱和保鮮。經蠟乳化處理的樹苗和灌叢能較好地抵御嚴酷干旱的環境。可以先把花先浸在水中，然后用蠟乳處理，可以顯著延長花卉的壽命。4、造紙工業：絕大多數紙張在造紙過程中加入內膠料，可使紙張纖維固有的吸收網孔具有理想的抗水強度。常規填充劑一般使用樹脂，如使用蠟乳液，可替代傳統樹脂用量的20%~40%。乳液的加入可降低紙張的吸濕性，促進膠質在纖維結構中的均勻分布。