反滲透純水設備公司-技術先進

正確維護保養純水處理設備的重要性解析

在晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。陽離子交換樹脂用其H＋交換去除水中的陽離子，陰離子交換樹脂用其OH－交換去除水中的陰離子，在混床樹脂中被交換出來的H＋和OH－結合生成H2O，因此混床離子交換純化柱可用來深度去除RO純水中尚存的微量離子。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。

占地面積小

EDI超純水設備系統與混床相比在相同流量處理能力的條件下占地面積要小的多，約為1/10。這種為客戶著想的設計是通過省去巨大的再生儲存和廢水中和系統而得以實現的。

總而言之，EDI超純水設備系統操作簡單、使用方便、占地面積小、無化學污染等性能優勢，對于沒有專業操作人員的廠家來說是好的選擇。防止反滲透膜結垢現象的發生要從四方面著手，濾速方面，過濾器的濾速不能太快又不能太慢反洗，。因為一般的簡單培訓人員無法熟練的操作混床超純水設備的再生、樹脂再生等，嚴重影響廠家的正常生產。采用EDI超純水設備系統可以很好的保障生產進程，又能省去后期的維護麻煩，何樂而不為。

電子純水設備為什么會出現化學結垢問題

在電子純水設備的原水中含有大量的無機物離子，原水沒經過處理之前，一般來說，離子的濃度是不會達到飽和度的，也就不會發生生成水垢的問題。如果我們使用天然水作為超純水生產設備的原水時，會有大量的微生物進入到反滲透系統中，而且，設備工作環境溫度一般在20攝氏度到40攝氏度之間，這一溫度下非常適合微生物的生長，微生物在這個環境下會快速繁殖生長，使其含量達到一個很高的水平。但是，當原水經過反滲透系統之后，原水按反滲透系統75%的回收率計算的話，濃水已經經過了4倍的濃縮，這時候水質的離子濃度已經遠遠達到其飽和度，這時候就會結晶析出，生成水垢。