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發布時間：2021-06-23 02:07
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氧化鋯由于ZrO2單晶需摻入釔（Y）以穩定其結構， 一般實際使用的是YSZ單晶――加入釔穩定劑（含量約19%）的氧化鋯單晶。它機械、化學穩定性好，價格較低因而得以廣泛應用。氧化鋯存在三種穩定度同素異晶體：單斜相，立方相和四方相。純氧化鋯的單斜相從室溫到1170℃是穩定的，超過這一溫度轉變為四方相，然后在2370℃轉變為立方相，直到2680℃發生融化。
氧化鋯由于ZrO2單晶需摻入釔（Y）以穩定其結構， 一般實際使用的是YSZ單晶――加入釔穩定劑（含量約19%）的氧化鋯單晶。它機械、化學穩定性好，價格較低因而得以廣泛應用。氧化鋯(YSZ)單晶基片是zui早應用于高溫超導薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩定劑,常見濃度有13 mol%,YSZ具有機械和化學穩定性好、成本低的特點。
氧化鋯晶型有三種 純的氧化鋯在常壓下有三種晶型：從低溫到高溫依次為單斜、四方和立方。其密度分別為：單斜型5.65g/cm3，四方型6.10g/cm3，立方型6.27g/cm3。 可見溫度越高，密度越大。因此，在同樣質量下，溫度越低，體積越大。
氧化鋯的穩定化處理 當ZrO2從高溫冷卻到室溫要經歷c→t→m的同質異構轉變，其中由t-m相變過程要產生約7%的體積膨脹，加熱至1170℃時m-ZrO2轉變為t-ZrO2，這種轉變過程則發生體積收縮，這種t相和m相之間的相變稱為ZrO2的馬氏體相變
