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發布時間：2021-01-12 13:51
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與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質結合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優良，與基體結合牢固, 且工藝簡單，對環境污染小, 目前對其生長規律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究, 在工業上得到了一定的應用, 是一種具有發展潛力的鎂合金表面處理技術。微弧氧化技術在現代工業中應用匯越來越廣泛。其中，微弧氧化表面處理形成保護膜是提高Mg及鎂合金材料抗蝕性最非常重要有效的方法。
微弧氧化除了所需電功率較大之外，微弧氧化工藝實際上并不算復雜，所使用的gui酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等電解質是環保無毒的，對鋁材的要求也不高，不管是 6000系的航空級鋁材，還是難以陽極氧化的含銅、含gui鋁材都可以進行微弧氧化，并且能得到理想的陶瓷結晶層。微弧氧化在處理過程中會自動對制品表面進行拋光處理，一些粗糙的制品表面可以修復得平整光滑，在一定程度上也節省了后期成本。反應的高溫將使膜層發生熔融，基體元素由于處在富氧環境中，將形成氧化物。
溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響
1、微弧氧化溶液溫度低時，氧化膜的生長速度較快，膜致密，性能較佳。但溫度過低時，氧化作用較弱，膜厚和硬度值都較低。
2、微弧氧化溶液溫度過高時，堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強，致使膜厚與硬度顯著下降，且溶液易飛濺，膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好，這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。
3、溶液酸堿度：酸堿度過大或過小，溶解速度都加快，氧化膜生長速度減慢，所以一般選擇弱堿性溶液。
4、溶液濃度：溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源
微弧氧化技術的突特性
微弧氧化瓷器技術是這種在鋁、鎂、鈦等輕金屬鋁合金表面原點生長發育瓷器層的高新科技。微弧氧化技術的運用大幅地提升了原材料的表面硬度，可與鎢鋼相提并論，大大的超出調質處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；在手機中框，筆記本殼體，飛機的某些零部件，鎂合金醫用器材等領域具有廣泛的應用價值。微弧氧化解決的輕金屬表面產生一層層膜，具備非常好的耐磨損抗腐蝕的特性。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化
