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發布時間:2020-12-11 05:01  
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北京賽米萊德貿易有限公司供應美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY,NR9i-3000PY有下面的優勢: 1. 比較高的光刻速度,可以定制光刻速度來曝光產量 2. 比較高的分辨率和快的顯影時間 3. 根據曝光能量可以比較容易的調整側壁角度 4. 耐溫可以達到100攝氏度 5. 用RR5去膠液可以很容易的去膠 NR9-3000PY的制作和工藝是根據職業和環境的安全而設計。同時,這一步驟還可以減輕因高速旋轉形成的薄膜應力,從而提高光刻膠襯底上的附著性。
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光刻膠市場
我國光刻膠市場規模2015年已達51.7億元,同比增長11%,高于國際市場增速,但全球占比仍不足15%,發展空間巨大。這層堅硬的外殼可以采取兩種現有方法去除:方法一,采用濕法刻蝕,但這種工藝容易產生光刻膠殘留。2015年我國光刻膠產量為9.75萬噸,而需求量為10.12萬噸,依照需求量及產量增速預計,未來仍將保持供不應求的局面。據智研咨詢估計,得益于我國平面顯示和半導體產業的發展,我國光刻膠市場需求,在2022年可能突破27.2萬噸。在光刻膠生產種類上,我國光刻膠廠商主要生產PCB光刻膠,而LCD光刻膠和半導體光刻膠生產規模較小,相關光刻膠主要依賴進口。放眼國際市場,光刻膠也主要被美國Futurrex 的光刻膠、日本合成橡膠(JSR)、東京應化(TOK)、住友化學、美國杜邦、德國巴斯夫等化工寡頭壟斷。
NR77-5000PY
PR1-2000A1 試驗操作流程
PR1-2000A1的厚度范圍可以做到 1500到3500nm,如下以膜厚2900nm為列;
1,靜態滴膠后以1300轉/分速度持續40秒。同時必須需要在1秒內達到從0轉/分到1300轉/分的升速度;
2,前烘:熱板120度120秒;
3,冷卻至室溫;
4,用波長為365,406,436的波長曝光,
5,在溫度為20-25度,使用RD6浸泡式、噴霧、顯影 ;
6,去除光刻膠,可使用CH3COCH3,RR5,RR41等。