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派瑞林原料cN是一種很好的介電材料，具有非常低的介質(zhì)損耗、高絕緣強(qiáng)度以及不隨頻率變化的介電常數(shù)，是所有派瑞林原料c中穿透能力的一種，并具有很好的自潤(rùn)滑性；

派瑞林原料cF具有高通透性和介電性能好的特點(diǎn)，在光電和等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用；

派瑞林原料cHT具有更低的介電常數(shù)，透波性能好，熱穩(wěn)定性好。

派瑞林原料c可以涂敷到各種形狀的表面，在鹽霧、霉菌、潮濕、腐蝕性等惡劣環(huán)境中顯示了很好的隔離防護(hù)功能。而且生物相容性和生物穩(wěn)定性也好，無(wú)毒無(wú)副產(chǎn)物，可以進(jìn)行常規(guī)消毒。隨著生物電子科學(xué)的不斷進(jìn)步和發(fā)展，領(lǐng)域的很多方面都有使用派瑞林。

真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程形成薄膜。

真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。真空鍍膜機(jī)對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，蒸發(fā)或?yàn)R射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過(guò)程。無(wú)論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機(jī)物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜，不同的材料可以同時(shí)氣相沉積得到多層膜。

對(duì)于真空鍍膜機(jī)設(shè)備而言，真空泵是獲得真空環(huán)境不可缺少的一部分，制造商每次制造真空鍍膜設(shè)備時(shí)都會(huì)搭配一個(gè)或多個(gè)真空泵。

真空鍍膜機(jī)在選擇如何選擇真空泵時(shí)，應(yīng)注意以下事項(xiàng)：

1.真空泵的工作壓力必須滿(mǎn)足真空設(shè)備的極限真空和工作壓力要求。

2.正確地選擇真空泵的工作壓力。每種泵都有一定的工作壓強(qiáng)范圍,

3.真空泵在工作壓力下，應(yīng)能排出真空設(shè)備工藝過(guò)程中產(chǎn)生的全部氣體量。

4.真空泵的正確組合有選擇性吸入，所以有時(shí)選擇一種泵也不能滿(mǎn)足進(jìn)氣要求，必須與幾種泵結(jié)合，互相補(bǔ)充，才能滿(mǎn)足進(jìn)氣要求。