單道掃描ICP光譜儀公司的行業須知 北京鋼研納克

應用領域

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析?？梢钥焖佟蚀_地檢測從微量到常量約70種元素。

售后服務保障

售后服務工程師出自生產線、技術力量無法比較的

多年的國際合作經驗打造了完善的售后服務體系

自主知識產權產品使儀器的運行成本特別是備件成本大幅降低

鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數

1. 光學系統：中階梯二維分光光學系統，焦距400mm

2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態射頻發生器，小巧有效

5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限

6. 自動匹配調節

7. 全組裝式炬管，降低了維護成本

8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能

9. 實驗數據穩定性良好：重復性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩定性：RSD

≤2.0%（大于3小時）

由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發內容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產品樣機將于年內完成；ICP質譜儀第二代研發樣機已成功組裝和調試，采集到正確的譜圖，這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統、接口及離子傳輸系統以及射頻發生器系統3個關鍵、難點技術已經實現原理攻克。為高質量、按期完成項目任務和本單位新產品開發任務奠定了堅實的基礎。