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發(fā)布時間:2021-06-16 06:39  
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對不同潔凈度等級的潔凈室,產(chǎn)生粉塵和有害氣體的潔凈室,被排介質毒性大的、有易1燃易1爆氣體的崗位,應單獨設局部排風系統(tǒng)。現(xiàn)在國內的相關企業(yè)很多,所以凈化工程企業(yè)之間的競爭也很激烈,因為科技的發(fā)展使得市場對凈化工程的要求高了起來,從以前的價格競爭變成了現(xiàn)在的價值競爭。所以相關的凈化工程企業(yè)應該提高自身的自主研發(fā)能力,不斷的發(fā)展創(chuàng)新,才能適應這個競爭激烈的市場。1級:主要應用于電子工業(yè),這是目前對凈化工程要求高的環(huán)境,集成電路要求的精度要達到亞微米。隨著微電子工業(yè)技術領域的突飛猛進,對潔凈室的要求越來越高。及時生產(chǎn)間內的例子直徑僅有1微米,也會使產(chǎn)品壽命受到影響。

潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定,但在滿足工藝要求的條件下,應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。壓力差的維持依靠新風量,這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄(或滲透)風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。10級:主要用于帶寬小于2微米的半導體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級,并且我國半導體技術也在發(fā)展之中,在未來對潔凈度的要求更加高。

潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定,但在滿足工藝要求的條件下,應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。直徑100 um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,同時要求濕度值一般較低,因為人出汗以后,對產(chǎn)品將有污染,特別是怕鈉的半導體車間,這種車間不宜超過25度。設計合理的空間面積應考慮到設備操作、維修的需要。生產(chǎn)區(qū)和儲存區(qū)應有與生產(chǎn)規(guī)模相適應的空間面積,用以安置設備、物料,便于操作和維修。
