太倉光罩服務介紹【蘇州制版】

公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

什么是光刻掩模板

　在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構，稱為光刻掩模版。

　　半導體集成電路制作過程通常需要經過多次光刻工藝，在半導體晶體表面的介質層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能套準的、具有特定幾何圖形的光復印掩蔽模版。

光掩膜版行業的發展主要受下游平板顯示行業、觸控行業、半導體行業和電路板行業的發展影響，與下游終端行業的主流消費電子 （手機、平板、可穿戴設備）、筆記本電腦、車載電子、網絡通信、家用電器、LED 照明、物聯網、電子等產品的發展趨勢密切相關，預計未來幾年我國光掩膜版行業將向大尺寸、精細化、全產業鏈方向發展。作為半導體、液晶顯示器制造過程中轉移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導體制程中非常關鍵的一環。

通過金屬化過程，在硅襯底上布置一層僅數納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光（一般是紫外線）后可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上，可以對光刻膠進行選擇性照射（曝光）。然后使用前面提到的顯影液，溶解掉被照射的區域，這樣，光掩模上的圖形就呈現在光刻膠上。但隨著顯影液pH值的降低，堿液對氧化層和涂層樹脂的腐蝕力下降，版材的網點再現性及耐印力比用新配制的顯影液好一些。通常還將通過烘干措施，改善剩余部分光刻膠的一些性質。

光呆板業界別稱光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金屬鉻和光感應膠，該商品是由石英玻璃或是碳酸鈉夾層玻璃做為襯底，在其上邊鍍上一層層金屬鉻和光感應膠。在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學反應原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位，便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構造，稱之為光刻掩模板。光刻機的結構和工作原理：光刻機的光源有：激光，紫外光、深紫外光、極紫外光。