東莞稀土拋光粉生產價格合理「康運復合材料」

　國外于60年前開始生產稀土拋光粉，二十世紀90年代已形成各種標準化、系列化的產品達30多種規格牌號。

　　目前，國外的稀土拋光粉生產廠家主要有15家（年生產能力為200噸以上者）。其中，法國羅地亞公司年生產能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產廠家。美國的拋光粉年產量能力達1500噸以上。

。日本生產稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產在燒結設備和技術上均具特色。1968年，我國在上海躍龍化工廠研制成功稀土拋光粉。

以稀土拋光粉中CeO2量來劃分：

　　稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據其CeO2量的高低可將拋光粉分為兩大類：一類是CeO2含量高的價高質優的高拋光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價的低拋光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。

　　主要指標：產品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。

　　1.4.2中系稀土拋光粉的制備

　　用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉化成w（CeO2）=80%~85%的中級系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：

　　原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產品。主要設備：氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。

稀土拋光粉的應用

　　由于系稀土拋光粉具有較優的化學與物理性能，所以在工業制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優良，拋光效果較好，由于價格較高，國內的使用量較少。