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  2.2.7熱陰頻濺射（三極型濺射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電產(chǎn)生的離子，在靶表面負(fù)電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。

  2.2.8離子束濺射ionbeamsputtering：利用特殊的離子源獲得的離子束使靶的濺射。

  2.2.9輝光放電清洗glowdischargecleaning：利用輝光放電原理，使基片以及膜層表面經(jīng)受氣體放電轟擊的清洗過程。

  2.3物理氣相沉積；PVDphysicalvapordeition：在真空狀態(tài)下，鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或濺射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

真空鍍膜廠家真空室形帶來的影響

為盡量減小真空鍍膜機真空室形變帶來的影響，我們將導(dǎo)軌、絲桿等傳動件固定于一個剛性的中間層上，其與真空室底壁之間采用點、

線、面活性支撐，以吸收和隔離形變，并設(shè)置形變補償調(diào)節(jié)機構(gòu)，在系統(tǒng)抽真，參照有限元計算提供的理論數(shù)據(jù)預(yù)設(shè)適當(dāng)?shù)难a償量，以使其在真空狀態(tài)下達到平衡。

為了驗證有限元計算的結(jié)果，對真空室的形變和補償進行了測試。一步，將四只千分表定位在工作臺安裝基點的真空壁外側(cè)，

當(dāng)真空室由大氣抽到真空時，記錄各千分表的變化量，經(jīng)一體化處理后為用激光自準(zhǔn)直儀調(diào)整i形變補償。

真空鍍膜的特點是什么？

 1.真空鍍膜可以在固態(tài)基體上鍍制金屬，合金，半導(dǎo)體薄膜及各種化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范圍內(nèi)調(diào)控。

 2.真空鍍膜可以鍍制高純度，高致密度，與基體結(jié)合力強的各種功能薄膜拜。特別是各種金屬五金產(chǎn)品，大規(guī)模集成電路，小分子有機顯示器件等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備，其他制模技術(shù)無法滿足要求。

 3.真空鍍膜對環(huán)境無污染，特別是PVD方法。

 4.真空鍍膜是需要有真空設(shè)備來完成的鍍膜，所以成本比較高，但真空鍍膜產(chǎn)品耐磨性好，耐腐蝕，環(huán)保，產(chǎn)品可過ROHS測試。

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟效益的作用。

真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小，經(jīng)過表面拋光的金屬材料的表面對鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右，真空PVD鍍膜涂層對鋼材的摩擦系數(shù)在0.01～0.6之間，常用于壓鑄模具的真空PVD鍍膜涂層材料（AlCrN，AlTiN）摩擦系數(shù)一般在0.4-0.6，低的摩擦系數(shù)使經(jīng)過真空PVD鍍膜處理的模具在加工過程中與被加工零件的表面摩擦降低，零件表面品質(zhì)優(yōu)于沒有涂層的模具所生產(chǎn)的零件。