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磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些 下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積. 現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn). 直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象. 而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

磁控濺射鍍膜技術(shù)介紹

磁控濺射鍍膜技術(shù)介紹 磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種具有結(jié)構(gòu)簡單、電器控制穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)的真空鍍膜機(jī)，其工藝技術(shù)的選擇對薄膜的性能具有非常重要的影響。 磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下： 陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氣→預(yù)濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表面檢驗(yàn)→性能測試→包裝、入庫。 以上工藝技術(shù)就是以磁控濺射鍍膜設(shè)備為基礎(chǔ)，選用合適的靶材和濺射工藝，制備出超硬的耐磨鍍層，可以實(shí)現(xiàn)材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；同時，利用NCVM光學(xué)膜結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，設(shè)計(jì)出各層不同折射率材料，可以調(diào)配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強(qiáng)度高，具備外觀件時尚、美觀的特點(diǎn)，而且不會屏蔽電磁信號。 磁控濺射鍍膜設(shè)備配合NCVM工藝，能夠?qū)崿F(xiàn)對于陶瓷電子消費(fèi)品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強(qiáng)度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術(shù)性，更好地滿足消費(fèi)者的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下，通過相應(yīng)的物理化學(xué)手段來對金屬材料進(jìn)行轉(zhuǎn)換，以粒子的方式吸附在材料表面，形成鍍膜層，相比較普通真空電鍍，NCVM的技術(shù)含量更高，加工流程也更加復(fù)雜。 磁控濺射鍍超硬膜，結(jié)合NCVM光學(xué)鍍膜技術(shù)，其鍍層具有優(yōu)異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高等特點(diǎn)，已在電子產(chǎn)品中獲得大量應(yīng)用。隨著電子工業(yè)的迅猛發(fā)展，NCVM鍍膜憑借本身優(yōu)越的性能，在真空電鍍技術(shù)領(lǐng)域脫穎而出，成為了電子消費(fèi)品生產(chǎn)中的一項(xiàng)核心技術(shù)，在保證良好處理效果的同時，也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對于人體的危害，對其環(huán)境污染問題進(jìn)行解決。

真空鍍膜機(jī)注意事項(xiàng)及保養(yǎng)

真空鍍膜機(jī)注意事項(xiàng)及保養(yǎng) 真空鍍膜機(jī)的鍍膜原理是在高真空條件下，利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)溫度，熱蒸發(fā)成蒸氣分子材料，蒸發(fā)出來的分子到處迸射，碰到待鍍物體，隨之沉積在基材表面形成膜層。真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于微電子，光學(xué)成膜，裝飾，表面工程等領(lǐng)域。它在防止油污和工作效率上具有非常好的性能。而想要真空鍍膜設(shè)備長期穩(wěn)定的運(yùn)行，正確的使用及保養(yǎng)方法是必不可少的。 開機(jī)前要檢查水電氣是否正常，開機(jī)后，光控系統(tǒng)等于要先穩(wěn)定1小時再使用，鍍膜前要檢查光控片、晶控片壽命，加料、清潔之類的需要蓋上離子源的防護(hù)板，防止離子源柵網(wǎng)損壞。為了使光學(xué)鍍膜機(jī)能正常工作，平時需要對機(jī)器進(jìn)行保養(yǎng)，定期更換泵油，2個月左右為宜，真空泵也2個月一換，新的真空泵需要在使用半個月就立即更換，定期清潔設(shè)備及周邊環(huán)境，保持設(shè)備及環(huán)境的干凈。