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中頻磁控濺射鍍膜設備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現象；減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數倍。

新研發平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統介紹

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統按位置分為控制柜、變壓器組和操作臺三個主要部分。設備所有功能的控制元器件包括可編程PLC、變頻器、調壓模塊等都裝在控制柜里，控制柜的正面安裝有電阻、電離復合真空計，安裝有增壓泵、擴散泵的加熱電流表以及三相電源的指示燈、報警指示燈、緊急停止開關。

變壓器組安裝在真空罐的下面，其輸出端正極直接與對應的蒸發電極棒連接，輸出端負極并接后再與蒸發負極連接。

操作臺安放在真空罐的前方、觀察窗的下方，觸摸屏、各部件的操作控制按鈕、旋鈕或開關都設在操作臺的面板上。

觸摸屏位于操作面板的左上部，卷繞系統參數包括收放卷的張力、卷徑、機器的運行速度等的設置和數據顯示、真空系統的運行指示都在觸摸屏中進行。

操作面板的右上部是蒸發源加熱功率調節鈕和電流表，可以調節和顯示每組蒸發源的功率。

操作面板的下部是功能控制按鈕或開關，包括控制電源總開關、卷繞車進退、擺臂進退、彎輥正反轉、送絲開關及速度快慢、蓋板開關、系統運行的控制模式選擇等。

裝飾性真空鍍膜設備涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍膜設備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產品的不同技術要求，可施涂底涂層和面涂層，或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護涂層等。這些涂層的主要作用是： 提高膜層的結合力。采用相同的鍍膜方法，在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜，可提高膜層的結合力。 降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填補鍍件表面的缺陷，使鍍件表面達鏡面平整度。 能保護金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對鍍膜層能起保護作用。