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潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產生的問題更多。水平層流式：水平式空氣自過濾器單方向吹出，由對邊墻壁之回風系統回風，隨風向排出室外，一般在下流側污染較嚴重。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產的濕度范圍為35—45%。

賽達凈化堅持秉承以科技為先導、以市場為導向的科學管理理念，憑借規范化管理及專業的技術力量在食品、藥品、化妝品、微電子等諸多工業領域設計承建了潔凈SC廠房、GMP廠房、無菌室、實驗室及相關配套產品。我們的宗旨：專業！誠信！高效！

對于平行流潔凈室《習慣上稱層流潔凈室，由于主要靠氣流的“活塞打擠壓作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指標。潔凈工作棚：為在亂流式之潔凈室空間內以防靜電之透明塑料布圍成一小空間，采用獨立之HEPA或ULPA及空調送風機組而成為一較高的潔凈空間，其等級為10~1000級，高度在2。過去都參考美國20gB標準，采用0.45m/s．但人們也都了解到這樣大速度所需要的通風量是極大的，為了節能，也都在探求降低風速的可行性。

在我國，《空氣潔凈技術措施》和(潔凈廠房設計規范）都是這樣規定的：

垂直平行流（層流）潔凈室≥0.25m/s

水平平行流（層流）潔凈室≥0.35 m/s

無窗潔凈室的照明方式：

(1)一般照明它指不考慮特殊的局部需要，為照亮整個被照面積而設置的照明。

(2)局部照明這是指為增加某一地點（如工作點）的照度而設置的照明。但在室內照明由一般不單獨使用局部照明。

(3)混合照明這是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設計規范》應占總照度的10%—15%，但不低干150LX。 單位被照面積上接受的光通量即是照明單位勒克斯(LX)。