化州parylene 耐溫多重優惠,菱威派瑞林鍍膜工廠

       Parylene的熱分解起源于苯環兩側的C-C鍵，通過將二上的H原子替換為F原子，就得到HT型Parylene，目前還未商品化，但HT型所擁有的大于420的使用溫度和的介電常數，使其在航空及半導體領域具有廣泛的應用前景尖銳的棱邊，裂縫里和內表面。

      Parylene采用了一種獨特的化學氣相沉積工藝（CVD）。CVD工藝早應用于半導體工業的外延生長，整個過程是氣態反應，又在真空條件下進行，因而可以獲得非常均勻的涂層，達到其它方法難以實現的同形性。

       作為涂層，Parylene的超薄、無孔隙、均勻、同形性好、耐腐蝕、與人體組織及血液相容等一系列優點，使其在生物醫學領域應用廣泛，Parylene不僅提供了惰性、生物相容的隔離層，可有效防止外界的化學品、水分和體液的侵蝕，同時增加了器件表面的干潤滑性和絕緣性能。

      Parylene用獨特的真空氣相沉積工藝制備，由活性小分子在基材表面“生長”出完全敷形的聚合物薄膜涂層，具有其他涂層難以比擬的性能優勢。它能涂敷到各種形狀的表面，包括這種室溫沉積制備的0.1-100微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無、透明無應力、不含助劑、不損傷工件、有優異的電絕緣性和防護性，是當代的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。

       1、光學特性：Parylene在可見光的范圍內吸收得很少，因此是透明無色的。無色透明的薄膜可用于光學器件、可擦性光電儲存器件和靜電復印器件。在低于280微米時，Parylene  N 和Parylene C 的吸收都很強。

       2、性和氣候變化抵抗能力：在真空中，Parylene N,C和D薄膜表現出很高的抵抗伽瑪射線衰變的能力。張力和電氣性能在1.6Mr/h的劑量率下加到100Mr之后仍舊保持不變。雖然Parylene在室內穩定，但建議不要在室外陽光直接照射的環境下長期使用。