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發布時間:2020-12-05 07:28  
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離子屬刻蝕機的注意事項
創世威納——專業離子束刻蝕機供應商,我們為您帶來以下信息。
#.在設備工作時,禁止扶、靠設備,禁止觸摸高頻電纜和線圈,以免發生意外
#.高頻電源實際使用功率不能超過較大限制#.檢查設備時,必須關機后切斷電源
#. 工作場地必須保持清潔、干燥,設備上及設備周圍不得放置無關物品,特別是易1燃、易1爆物品
#.長期停放時注意防潮,拆除電源進線,每隔3-5天開一次機,保證反應室真空以免被污 染
#.設備停機、過夜也要保持反應室真空,如停機較長時間后再進行刻蝕工藝,需先進行一次空載刻蝕,再刻蝕硅片
反應離子刻蝕的原理
在反應離子刻蝕中,氣體放電產生的等離子體中有大量化學活性的氣體離子,這些離子與材料表面相互作用導致表面原子產生化學反應,生成可揮發產物。這些揮發產物隨真空抽氣系統被排走。隨著材料表層的“反應-剝離-排放”的周期循環,材料被逐層刻蝕到特定深度。除了表面化學反應外,帶能量的離子轟擊材料表面也會使表面原子濺射,產生一定的刻蝕作用。所以,反應離子刻蝕包括物理和化學刻蝕兩者的結合。
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離子束刻蝕
離子束刻蝕是利用具有一定能量的離子轟擊材料表面,使材料原子發生濺射,從而達到刻蝕目的.把Ar、Kr或Xe之類惰性氣體充入離子源放電室并使其電離形成等離子體,然后由柵極將離子呈束狀引出并加速,具有一定能量的離子束進入工作室,射向固體表面撞擊固體表面原子,使材料原子發生濺射,達到刻蝕目的,屬純物理過程。
離子束加工(mM)利用具有較高能量的離子束射到材料表面時所發生的撞擊效應、濺射效應和注入效應來進行不同的加工。由于離子束轟擊材料是逐層去除原子,所以可以達到納米級的加工精度。離子束加工按其工藝原理和目的的不同可以分為三種:用于從工件上去除材料的刻蝕加工、用于給工件表面涂覆的鍍層加工以及用于表面改性的離子注入加工。由于電子束和離子束易于實現準確的控制,所以可以實現加工過程的全自動化,但是電子束和離子束的聚焦、偏轉等方面還有許多技術問題尚待解決