成都離子鍍膜設備廠家廠家直供

全自動汽車燈具鍍膜設備

全自動汽車燈具鍍膜設備主要用于汽車燈具表面蒸鍍鋁反射膜和硅油保護膜，蒸鍍燈具材料有PC、ABS、PBT、PP、PC ABS ASA、PP GF等。

功能包括：在真空室內一次完成高壓離子轟擊前處理、鍍鋁膜和鍍二次保護膜等處理。超硬保護膜提高了鋁層的能力和保持鋁層長久的高反射率。所鍍汽車燈具反射膜達到了汽車燈具國家標準，通過了耐酸、耐堿、耐鹽等試驗。

設備采用計算機系統控制和監控設備運行狀態和鍍膜工藝過程（所監控的數據可以回放），采用PLC控制和觸摸式人機界面，實現鍍膜過程的全自動化，操作簡單，提高了工作效率，保證了產品品質的穩定性和一致性，同時減少了人為因素影響。設備鍍膜質量高，穩定可靠。

真空鍍膜設備鎂鋁合金鍍膜的性質真空鍍膜設備應用范圍

真空鍍膜設備鎂和鎂的合金的低密度使其比性能提高。例如20o時的彈性模量為45Gpa,比鋁(70Gpa)和Ti(120Gpa)的低。鎂和鎂合金質量小的特點使其在交通運輸、航空I業和航天I業上具有巨大的應用前景。真空鍍膜設備在空氣氣中鎂 會慢慢氧化，失去銀白光澤而變黑。若溫度提高至400C以上,鎂的氧化速度增快，超過500°C以后氧化速度更快，會著火燃燒,此時會生成氧化鎂和少量。鎂燃燒時會發出非常強烈的光亮,頗受人們的青睞。早期就被利用于攝影照明，給人們留下美好的形象和記憶。利用這一特點 ,人們制作成的各種形色的在夜空飛舞,給人們帶來極大的歡樂。

由于化學活潑性高,金屬鎂是耐腐蝕性能最差的金屬之一。 各種類型大氣均會對鎂產 生程度不同的腐蝕作用。在干燥的空氣中,它的表面上形成一層暗淡的的疏松多孔氧化膜,在潮濕大氣中,生成的產物組成大致為Mgco3:3H2O Mgso4 7H2o Mg(OH)2。大氣濕度增加工業地區和海洋環境的大氣中所含的和氫化物等物質能加重鎂的腐蝕。鎂中氯化物雜質及鐵雜質也會加速鎂的腐蝕。因此,工業生產的鎂錠必須鍍膜鈍化。

高頻磁控濺射設備有什么特點

高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氣體和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。 磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識

真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識 源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。 不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。