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              單靶磁控濺射儀報價詢問報價 沈陽鵬程公司

              發布時間:2021-09-06 23:26  

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              什么是磁控濺射?

              磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。電離出的離子轟擊靶表面,使得靶原子濺出并沉積在基片上,形成薄膜。上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

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              自動磁控濺射系統概述

              帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,大到6'旋轉平臺,可支持到4個偏軸平面磁控管。濺射產生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

              帶有14”立方形不銹鋼腔體,4個2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。

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              自動磁控濺射系統有哪些特點?

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售磁控濺射產品,我們為您分析該產品的以下信息。

              自動磁控濺射系統產品特點:

              不銹鋼腔體

              晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

              帶觀察視窗的腔門易于上下的載片

              基于LabView軟件的PC計算機控制

              帶密碼保護功能的多級訪問控制

              完全的安全聯鎖功能

              預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片



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