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隨著全球制造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術、材料需求都在不斷增加，包括制造大規模集成電路的電學膜;數字式縱向與橫向均可磁化的數據紀錄儲存膜;充分展示和應用各種光學特性的光學膜;計算機顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜;建筑、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領域用防護膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統制造廠家提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜系統，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化小化等方面。

鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。

真空鍍膜設備如何操作？

真空鍍膜設備操作程序具體操作時請參照該設備說明書和真空鍍膜機上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。

檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在'關'位置。打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。

低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

把薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。

啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。

在選擇真空鍍膜設備時會考慮設備的各種性能特點，結合自身所鍍產品的需要綜合考核

根據設備使用特點，可選擇手動、半自動、全自動或其組合的控制方式。

真空鍍膜設備充氣方式的選擇。

根據工藝要求選擇鍍制方式及形式。

夾具運轉形式，用戶可根據基片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。

根據工藝要求選擇不同規格及類型的鍍膜設備，其類型有電阻蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。