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電子束結構介紹

粒子增速器的結構可以與顯像管類比。顯像管中的電子槍對應于增速器的電子槍或離子源，顯像管中加速電子用的高壓電極對應于增速器中的高壓加速電極及加速腔。顯像管中控制電子運動的電偏轉板與聚焦電子的聚焦線圈，對應于增速器中控制粒子運動軌道和聚焦粒子束流的多種電磁部件，如導向磁鐵、聚焦磁鐵、多極校正磁鐵等。對粒子增速器的粒子運行管道來說，為了減少粒子在運動中與殘余氣體碰撞而造成粒子的丟失和束流性能變壞，所要求的真空度比顯像管要高數千到數萬倍。隨著科學技術的不斷發展，根據科學家對粒子能量和流強的不同要求，陸續產生了不同原理、不同結構的多種增速器。環狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直于靶面的電場分量形成正交電磁場。

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電子束鍍膜機介紹

* 帶旋轉的傾斜沉積

* 行星式基片夾具

* 基片RF/DC偏壓

* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

* 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

* 用于反應蒸鍍的MFC

* 不同的泵組選擇，可升級分子泵為冷泵，前級泵為干泵

* 進樣室和自動上下片/可支持單片和25片片夾

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電子束鍍膜機電源柜的操作

1. 總電源

2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延遲開關、電源及保護燈亮，三分鐘后延遲 及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。

3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

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